[发明专利]一种半加成法线铜面针孔的制作方式在审
申请号: | 201510695296.8 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN105307407A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 柴志强;刘燕 | 申请(专利权)人: | 安捷利电子科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H05K3/10 | 分类号: | H05K3/10 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种半加成法线铜面针孔的制作方式,其包括以下步骤:激光钻孔、黑孔、电镀填孔、减薄铜、等离子、沉铜、光致前处理、贴膜、曝光、显影、图形电镀、剥膜、去基材铜。本发明的半加成法线铜面针孔的制作方式,能克服现有技术的缺陷(漏PI的表面没有铜,图形电镀过程不能导电,表面不可能发生电镀过程,导致漏镀),本发明增加等离子、沉铜两个步骤后,这样形成的沉铜层,在后续电镀过程中,铜离子会在沉铜层上堆积,能避免漏基材导致铜面不能上铜的情况发生,因而不会发生漏镀。 | ||
搜索关键词: | 一种 加成 法线 针孔 制作 方式 | ||
【主权项】:
一种半加成法线铜面针孔的制作方式,其包括以下步骤:激光钻孔、黑孔、电镀填孔、减薄铜、光致前处理、贴膜、曝光、显影、图形电镀、剥膜、去基材铜;其特征在于:所述制作方式还包括等离子、沉铜两个步骤;所述制作方式的步骤依次为:激光钻孔、黑孔、电镀填孔、减薄铜、等离子、沉铜、光致前处理、贴膜、曝光、显影、图形电镀、剥膜、去基材铜。
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