[发明专利]一种新型全熔高效坩埚的制备方法在审
申请号: | 201510710420.3 | 申请日: | 2015-10-28 |
公开(公告)号: | CN105177710A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 刘明权;王禄宝 | 申请(专利权)人: | 镇江环太硅科技有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 陈丽君 |
地址: | 212200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种新型全熔高效坩埚,其中,包括坩埚母体,所述坩埚母体底部设有形核源粘结层,所述形核源粘结层为粘结浆料,通过刷涂的方式均匀分布在坩埚母体底部内表面;所述形核源粘结层上设有形核源层,所述形核源层为高纯微球状石英砂;所述坩埚母体内部侧壁以及形核源层上均匀设有脱模层,所述脱模层为高纯微球状石英砂,通过喷涂的方式将所述高纯微球状石英砂分布在坩埚母体内部侧壁以及形核源层上;所述坩埚底部脱模层外部喷涂有高纯硅微粉。用其所制备硅锭光电转换效率相较普通硅片明显提升,相较普通高效坩埚所制备高效锭光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 高效 坩埚 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种新型全熔高效坩埚,其特征在于,包括坩埚母体,所述坩埚母体底部设有形核源粘结层,所述形核源粘结层为粘结浆料,通过刷涂的方式均匀分布在坩埚母体底部内表面;所述形核源粘结层上设有形核源层,所述形核源层为高纯微球状石英砂;所述坩埚母体内部侧壁以及形核源层上均匀设有脱模层,所述脱模层为高纯微球状石英砂,通过喷涂的方式将所述高纯微球状石英砂分布在坩埚母体内部侧壁以及形核源层上;所述坩埚底部脱模层外部喷涂有高纯硅微粉。
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