[发明专利]具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用及组合物有效
申请号: | 201510713106.0 | 申请日: | 2015-10-28 |
公开(公告)号: | CN105573053B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 浜口仁;田中健朗 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/028 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种用于抑制液状的膜形成材料的濡湿扩散、洇渗而形成高精细的图案的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用,且提供一种组合物及一种感放射线性树脂组合物。具有亲液部与疏液部的基材的制造方法是通过包括以下工序的制造方法而达成:在基板上,(1)涂布组合物而形成涂膜的工序,其中组合物含有(A)具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物、(B)酸产生剂及与(A)不同的化合物(C);以及(2)对涂膜的既定部分进行放射线照射的工序。导电膜形成方法是通过以下方式达成:在工序(2)后,在形成于基板(1)上的涂膜的放射线照射部中的亲液部上涂布导电膜形成用的膜形成材料,并进行加热。 | ||
搜索关键词: | 具有 亲液部 疏液部 基材 制造 方法 及其 应用 组合 | ||
【主权项】:
一种具有亲液部与疏液部的基材的制造方法,其特征在于:包括下述(1)及(2)的工序,制造具有亲液部与疏液部的基材,(1)涂布组合物而形成涂膜的工序,其中所述组合物含有:[A]具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物、[B]酸产生剂、及与[A]不同的化合物[C];(2)对所述涂膜的既定部分进行放射线照射的工序。
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