[发明专利]具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用及组合物有效

专利信息
申请号: 201510713106.0 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105573053B 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 浜口仁;田中健朗 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/028
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 彭雪瑞;臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于抑制液状的膜形成材料的濡湿扩散、洇渗而形成高精细的图案的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用,且提供一种组合物及一种感放射线性树脂组合物。具有亲液部与疏液部的基材的制造方法是通过包括以下工序的制造方法而达成:在基板上,(1)涂布组合物而形成涂膜的工序,其中组合物含有(A)具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物、(B)酸产生剂及与(A)不同的化合物(C);以及(2)对涂膜的既定部分进行放射线照射的工序。导电膜形成方法是通过以下方式达成:在工序(2)后,在形成于基板(1)上的涂膜的放射线照射部中的亲液部上涂布导电膜形成用的膜形成材料,并进行加热。
搜索关键词: 具有 亲液部 疏液部 基材 制造 方法 及其 应用 组合
【主权项】:
一种具有亲液部与疏液部的基材的制造方法,其特征在于:包括下述(1)及(2)的工序,制造具有亲液部与疏液部的基材,(1)涂布组合物而形成涂膜的工序,其中所述组合物含有:[A]具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物、[B]酸产生剂、及与[A]不同的化合物[C];(2)对所述涂膜的既定部分进行放射线照射的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510713106.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top