[发明专利]一种掩膜板有效
申请号: | 201510714183.8 | 申请日: | 2015-10-29 |
公开(公告)号: | CN105159025B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 许卓;白雅杰;王小元;金在光;尚飞 | 申请(专利权)人: | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种掩膜板,用于解决现有技术中掩膜板的过孔图案在曝光后形成的过孔电阻大的问题。本发明提供的掩膜板,由于掩膜板的过孔图案包括主体部分和与主体部分连接并朝向所述主体部分外侧的至少2个突出部分;突起及相邻突之间通过曝光分别形成过孔的突出部分和凹陷部分,增加了过孔的周长,扩大了过孔的边缘区域,有效的降低了过孔的电阻。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,包括过孔图案,所述过孔图案包括主体部分和与主体部分连接并朝向所述主体部分外侧的至少2个突出部分;所述主体部分的尺寸大于曝光机解像尺寸;所述突出部分包括尺寸大于曝光机解像尺寸的第一突出部分;所述突出部分为3个或4个。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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