[发明专利]一种掩膜板有效

专利信息
申请号: 201510714183.8 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN105159025B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 许卓;白雅杰;王小元;金在光;尚飞 申请(专利权)人: 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 400714 重庆市北碚区*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供一种掩膜板,用于解决现有技术中掩膜板的过孔图案在曝光后形成的过孔电阻大的问题。本发明提供的掩膜板,由于掩膜板的过孔图案包括主体部分和与主体部分连接并朝向所述主体部分外侧的至少2个突出部分;突起及相邻突之间通过曝光分别形成过孔的突出部分和凹陷部分,增加了过孔的周长,扩大了过孔的边缘区域,有效的降低了过孔的电阻。
搜索关键词: 一种 掩膜板
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,包括过孔图案,所述过孔图案包括主体部分和与主体部分连接并朝向所述主体部分外侧的至少2个突出部分;所述主体部分的尺寸大于曝光机解像尺寸;所述突出部分包括尺寸大于曝光机解像尺寸的第一突出部分;所述突出部分为3个或4个。
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