[发明专利]一种多晶硅设备的化学络合清洗方法在审
申请号: | 201510715726.8 | 申请日: | 2015-10-28 |
公开(公告)号: | CN105256320A | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 刘辉 | 申请(专利权)人: | 陕西庄臣环保科技有限公司 |
主分类号: | C23G1/08 | 分类号: | C23G1/08;C23C22/62 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 刘国智 |
地址: | 712000 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种多晶硅储罐类设备清洗装置,络合化学清洗及设备清洗工艺是对传统“酸碱清洗”的一项绿色新技术革命;其采用的无毒无味,不挥发,排放无污染环境的络合剂进行清洗,完全解决了多晶硅清洗中的各种难题,避免了酸洗对设备材质的腐蚀损伤。本发明能够采用浸泡式循环流水线作业,使多晶硅设备的管道清洗产能提高3-5倍,能大大缩短多晶硅设备清洗的时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 设备 化学 络合 清洗 方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅设备的化学络合清洗方法,其特征在于,包括以下操作:1)对待清洗的多晶硅设备进行去除表面附着物或杂质的预处理,然后向多晶硅设备中注入水进行试漏检测;2)待多晶硅设备无漏水后,采用高效脱脂剂对设备表面进行脱脂处理,所述的脱脂清洗剂为非离子表面活性剂;脱脂处理结束后排出脱脂清洗剂;脱脂处理后的设备立即进行水冲洗,冲洗至流出水的pH值中性为准;3)水冲洗结束后,采用络合除锈剂以浸泡清洗、循环清洗或喷淋清洗的方式对设备进行络合除锈清洗,所述的络合除锈为络合除锈剂溶解于35℃~45℃的水中,pH值为1~4;络合除锈清洗过程中在供给络合除锈剂的清洗循环槽中设置标准同材质标准试片进行监测,至流出液铁离子总量稳定时结束清洗;络合除锈清洗结束后排出络合除锈剂,用水冲洗至水清;4)水冲洗结束后,采用漂洗剂以循环清洗或喷淋清洗的方式对设备进行漂洗,所述的漂洗剂为弱酸溶液,其pH值为3.5~4.0,温度为45~60℃,漂洗1~3h;5)漂洗结束后排出漂洗剂,然后用温度为30~35℃、pH值为8~9的氨水进行氨塞处理,时间为0.2~1.5h;6)氨塞处理结束立即投加钝化剂对设备表面进行钝化处理,钝化结束后排出钝化剂,用水冲洗至水清;7)将设备用无油无尘的洁净空气强力吹干,封闭并充氮保护。
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