[发明专利]产生微静电场的抛光组件及化学抛光设备在审

专利信息
申请号: 201510743019.X 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN105405791A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 陈盈同 申请(专利权)人: 咏巨科技有限公司;陈盈同
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B24B1/00;B24B37/04
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 毛燕生
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 产生微静电场的抛光组件及化学抛光设备,属于化学抛光设备技术领域。包括一抛光机平台及带有提供微静电场的一抛光组件。抛光组件设置在抛光机平台的上方,且抛光组件包括一电场产生单元及一抛光垫,抛光垫具有一抛光区域与一底面。其中电场产生单元通过接收一外加电压以产生一微静电场,且微静电场施加于抛光垫的抛光区域。藉此,可以降低半导体晶圆表面的刮伤程度、避免机械应力的残留,同时能够减少抛光液的耗损,提供更好的抛光效率。
搜索关键词: 产生 静电场 抛光 组件 化学抛光 设备
【主权项】:
产生微静电场的抛光组件,适用于一化学抛光设备,其特征在于,该抛光组件包括一电场产生单元及一抛光垫,该抛光垫具有一抛光区域与一底面,该电场产生单元具有至少一电容结构并通过接收一外加电压以产生一微静电场,并且将该微静电场施加于该抛光垫的该抛光区域。
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