[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201510795235.9 申请日: 2015-11-18
公开(公告)号: CN105633085B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 俞在炫;卢镇铉;金寿台;李炳烈;张成熏;全钟声 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L29/94;H01L29/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体器件包括:基板,该基板包括具有第一掺杂浓度的第一杂质扩散区域和具有不同于第一掺杂浓度的第二掺杂浓度的至少一个第二杂质扩散区域,至少一个第二杂质扩散区被所述第一杂质扩散区域围绕;至少一个电极,面对第一杂质扩散区域和至少一个第二杂质扩散区域;和至少一个绝缘层,在第一杂质扩散区域与至少一个电极之间以及在至少一个第二杂质扩散区域与至少一个电极之间。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:基板,包括具有第一掺杂浓度的第一杂质扩散区域和具有不同于所述第一掺杂浓度的第二掺杂浓度的至少一个第二杂质扩散区域,所述至少一个第二杂质扩散区被所述第一杂质扩散区域围绕;至少一个电极,面对所述第一杂质扩散区域和所述至少一个第二杂质扩散区域;和至少一个绝缘层,在所述第一杂质扩散区域与所述至少一个电极之间以及在所述至少一个第二杂质扩散区域与所述至少一个电极之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510795235.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top