[发明专利]选择性真空打印机在审
| 申请号： | 201510796792.2 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN105599456A | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 耶胡达·本阿布 | 申请（专利权）人： | 卡姆特有限公司 |
| 主分类号： | B41J3/00 | 分类号： | B41J3/00;B41J3/407 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张华卿;郑霞 |
| 地址： | 以色列米格*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 一种选择性真空打印机。一种系统，其可包括配置成支撑基板的有孔结构和真空供应单元，真空供应单元配置成：(i)在第一处理时段期间阻止真空供应到基板的第一区域，在第一处理时段期间第一区域被处理并且基板的第二区域不被处理；(ii)在第一处理时段期间将真空提供到第二区域；(iii)在第二处理时段期间阻止真空供应到第二区域，在第二处理时段期间第二区域被处理并且第一区域不被处理；以及(iv)在第二处理时段期间将真空提供到第一区域。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 真空 打印机 | ||
【主权项】：
一种系统，包括：有孔结构，其配置成支撑基板；真空供应单元，其配置成：在第一处理时段期间阻止真空供应到所述基板的第一区域，在所述第一处理时段期间所述第一区域被处理并且所述基板的第二区域不被处理；在所述第一处理时段期间将真空提供到所述第二区域；在第二处理时段期间阻止真空供应到所述第二区域，在所述第二处理时段期间所述第二区域被处理并且所述第一区域不被处理；以及在所述第二处理时段期间将真空提供到所述第一区域。
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