[发明专利]一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法

摘要

本发明涉及一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，将哈氏合金作为靶材，同时将Q235低碳钢作为基片置于基片架上，进行磁控溅射沉积；其中磁控溅射沉积过程中工作气压为0.1-0.18Pa，N₂流速为20-24mL/min，靶材由中频脉冲电源控制，固定功率为350-400W，频率为80-100kHz；沉积过程中，基片施加-90V的中频脉冲偏压，基片温度控制为260-300℃，沉积时间为1-2h。本发明工艺简单，效果明显，对环境无污染，且在制备过程中使用普通的哈氏合金块材作为靶材，即可制备出具有纳米晶的哈氏合金涂层，所以具有生产成本低的特点，本发明适宜工业化大规模生产。

主权项

一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，包括：将哈氏合金作为靶材，同时将低碳钢作为基片置于基片架上，进行磁控溅射沉积，在低碳钢表面沉积一层哈氏合金涂层；其中磁控溅射沉积过程中工作气压为0.1‑0.18Pa，N₂流速为20‑24mL/min，靶材由中频脉冲电源控制，固定功率为350‑400W，频率为80‑100kHz；沉积过程中，基片施加‑90V的中频脉冲偏压，基片温度控制为260‑300℃，沉积时间为1‑2h。