[发明专利]一种中空halbach取向钕铁硼磁体有效
申请号: | 201510815050.X | 申请日: | 2015-11-23 |
公开(公告)号: | CN105427991A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 王海涛 | 申请(专利权)人: | 宁波尼兰德磁业有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F1/08;H01F41/02 |
代理公司: | 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙) 33243 | 代理人: | 张向飞 |
地址: | 315145 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开的中空halbach取向钕铁硼磁体,包括本体,本体为块状,本体内部设置有至少3个孔洞,孔洞包括至少两条蛇形孔道和至少一条直形孔道,其中蛇形孔道相互缠绕,相邻孔洞间壁厚大于等于0.01mm,孔洞结构区域占本体总体积的10-25%,本体具有磁化区,磁化区至少部分的磁场方向按照halbach阵列取向,磁化区的halbach阵列取向所形成的增强磁场在本体的外部。本发明通过结合磁体中的局部中空结构以及halbach阵列取向,以在降低磁体平均密度,调整重心的同时,避免场强性能的降低,从而提高应用的效率与便利性。 | ||
搜索关键词: | 一种 中空 halbach 取向 钕铁硼 磁体 | ||
【主权项】:
一种中空halbach取向钕铁硼磁体,包括本体,其特征在于:所述本体为块状,所述本体内部设置有至少3个孔洞,所述孔洞包括至少两条蛇形孔道和至少一条直形孔道,其中蛇形孔道相互缠绕,相邻孔洞间壁厚大于等于0.01mm,孔洞结构区域占本体总体积的10‑25%,所述本体具有磁化区,所述磁化区至少部分的磁场方向按照halbach阵列取向,所述磁化区的halbach阵列取向所形成的增强磁场在本体的外部。
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