[发明专利]具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法在审
| 申请号： | 201510817724.X | 申请日： | 2015-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN105632862A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 安贤焕;田银秀;金德勋 | 申请（专利权）人： | 系统科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;孙昌浩 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法，其中使覆盖腔室主体的上部的盖体升降，从而通过腔室主体的上部而实现基板的投入和搬出，据此可以防止腔室主体的内侧产生工艺气体的涡流。为此，本发明的基板处理装置包括：腔室主体(100)，内部具有用于安置基板(W)的载放座(400)，且上部开放；盖体(200)，用于开闭所述腔室主体(100)的开放的上部；盖体开闭驱动部(300)，提供驱动力，该驱动力使所述盖体(200)沿上下方向移动以开闭所述腔室主体(100)的上部。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 涡流 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种具有防涡流腔室的基板处理装置，包括：腔室主体(100)，内部具有用于安置基板(W)的载放座(400)，且上部开放；盖体(200)，用于开闭所述腔室主体(100)的开放的上部；盖体开闭驱动部(300)，提供驱动力，该驱动力使所述盖体(200)沿上下方向移动以开闭所述腔室主体(100)的上部。
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