[发明专利]用于处理物料的设备有效
申请号: | 201510828772.9 | 申请日: | 2015-11-25 |
公开(公告)号: | CN105633211B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | W·迈尔 | 申请(专利权)人: | 艾森曼欧洲公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677;F27B9/24;F27B9/30;B65G39/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 殷玲;吴鹏 |
地址: | 德国博*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于处理物料的设备,具有装备有外罩(20)的处理室(16),该外罩将位于其内的环境与位于外罩(20)外的环境分开,位于外罩(20)内的环境是受控制的环境。壳体(14)形成处理室(16)的边界。至少一个用于输送物料的传送辊(24)至少部分地布置在处理室(16)内。借助于一个或多个布置在壳体(14)外的支承装置(64、66)支承至少一个传送辊(24)。在至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于支承装置的壁之间设有柔性的补偿元件(76、78),设有与补偿元件(76、78)相连的密封布置结构(93、95),该密封布置结构将至少一个支承装置(64、66)与位于外罩(20)内的环境分开。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 物料 设备 | ||
【主权项】:
一种用于处理物料的设备,该设备具有:a)处理室(16),该处理室装备有外罩(20),该外罩将位于外罩(20)内的环境与位于外罩(20)外的环境分开,其中,位于外罩(20)内的环境是受控制的环境;b)壳体(14),该壳体形成处理室(16)的边界;c)至少一个至少部分地布置在处理室(16)内的、用于输送物料的传送辊(24);d)一个或多个支承装置(34、36;64、66),其布置在壳体(14)外且借助于该支承装置支承至少一个传送辊(24);其特征在于,e)在至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于支承装置(64、66)的壁之间设有柔性的补偿元件(76、78);f)设有与补偿元件(76、78)相连的密封布置结构(93、95),该密封布置结构将至少一个支承装置(64、66)与位于外罩(20)内的环境分开。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的