[发明专利]支撑单元和包括其的基板处理装置有效
| 申请号： | 201510849322.8 | 申请日： | 2015-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN105655222B | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 金泳俊;李元行 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所11410 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括处理室，其内具有处理空间；支撑单元，置于处理室内并支撑基板；气体供给单元，将处理气体供给到处理室内；等离子体源，使用处理气体产生等离子体；以及内衬单元，与所述处理室的内侧壁或所述处理室内的所述支撑单元邻近或接触。所述支撑单元包括上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非导电材料形成；电极板，放置在上板下方并由导电材料形成；和下板，放置在电极板下方并具有环状。在下板中提供冷却构件。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 单元 包括 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，包括：处理室，其内具有处理空间；支撑单元，置于处理室内并支撑基板；气体供给单元，将处理气体供给到处理室内；等离子体源，使用处理气体产生等离子体；以及内衬单元，与所述处理室的内侧壁或所述处理室内的所述支撑单元邻近或接触，其中，所述支撑单元包括：上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非导电材料形成；电极板，放置在上板下方并由导电材料形成；和下板，放置在电极板下方并具有环状，并且其中在下板中提供冷却构件，所述冷却构件包括形成在下板中的下流道，冷却流体流过所述下流道，且在所述电极板中包括上流道，用于冷却上板的冷却流体流过所述上流道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司，未经细美事有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510849322.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
