[发明专利]化学交换法分离硅同位素过程分离系数的测定方法及其所采用的装置在审
申请号: | 201510880563.9 | 申请日: | 2015-12-05 |
公开(公告)号: | CN105548329A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 唐克;钱建华;刘琳;邢锦娟;许家胜 | 申请(专利权)人: | 渤海大学 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62 |
代理公司: | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人: | 郭元艺 |
地址: | 121013 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学交换法分离硅同位素过程分离系数的测定方法及其所采用的装置,系采用醇类络合剂,由SiF4气体与四氟化硅醇类络合物进行硅同位素化学交换反应,测量不同温度及压力下的硅同位素分离系数;装置包括氮气钢瓶(1)、反应气SiF4钢瓶(2)、SiF4缓存罐(3)、分子筛柱(4)、化学交换反应釜(5)、带搅拌具有温度调节功能的冷冻加热器(6)、液相取样瓶(7)、气相取样瓶(8)、缓冲罐(9)及真空泵(10)。本发明结构合理,能够用于测量不同温度、不同压力条件下的四氟化硅-四氟化硅络合物体系同位素交换的分离系数。 | ||
搜索关键词: | 化学 交换 分离 同位素 过程 系数 测定 方法 及其 采用 装置 | ||
【主权项】:
化学交换法分离硅同位素过程分离系数的测定方法,其特征在于,采用醇类络合剂,由SiF4气体与四氟化硅醇类络合物进行硅同位素化学交换反应,测量不同温度及压力下的硅同位素分离系数,具体步骤如下:(1)对醇类络合剂进行脱水处理,使其含水量低于50ppm;SiF4气体纯度高于99.99%;氮气纯度高于99.9999%;(2)将醇类络合剂加入到化学交换反应釜中;持续控制化学交换反应釜的环境温度;(3)向化学交换反应釜中注入SiF4气体,进行四氟化硅与醇类络合剂的络合反应;反应过程中,逐步加入SiF4气体,待化学交换反应釜内温度和压力保持不变时,络合反应完成;(4)SiF4气体与四氟化硅醇类络合物进行硅同位素化学交换反应;(5)将化学交换反应达到平衡后的液体导入液相取样瓶中;将化学交换反应达到平衡后的气体导入气相取样瓶中;(6)将样品进行ICP‑Mass检测分析,计算硅同位素的分离系数。
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