[发明专利]一种含Co型超超临界机组用钢原奥氏体晶界的显示方法有效
申请号: | 201510880633.0 | 申请日: | 2015-12-03 |
公开(公告)号: | CN105547795B | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 刘越;马煜林;刘春明;古金涛;屈光;倪楠;周玲 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 110004 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及金相样品原奥氏体晶界观察技术领域,具体为一种合金含量高、耐腐蚀性强和抗氧化性好的含Co型超超临界机组用钢原奥氏体晶界的显示方法,具体工艺步骤为:首先对含Co型超超临界机组用钢试样进行研磨—抛光,然后采用预先化学腐蚀+电解腐蚀的方法,最后再结合机械抛光方法,以最终显示清晰地原奥氏体晶粒晶界。本发明可清晰完整地单独显示所述含Co型超超临界机组用钢原奥氏体晶粒晶界,从而能够全面地反映原奥氏体晶粒尺寸的大小及其分布,解决较难精准评定的含Co型超超临界机组用钢晶粒粗细与均匀性的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 co 型超超 临界 机组 用钢原 奥氏体 显示 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含Co型超超临界机组用钢原奥氏体晶界的显示方法,其特征在于:首先对含Co型超超临界机组用钢试样进行研磨—抛光,直至表面光亮,然后选取化学腐蚀剂进行预先化学腐蚀,再选取电解液对试样施加电解电压进行电解浸蚀,最后结合清水机械抛光方法,以最终清晰地显示原奥氏体晶粒晶界;所述化学腐蚀剂为饱和苦味酸水溶液,电解液为稀硫酸;所述含Co型超超临界机组用钢的合金成分按重量百分数计,含C:0.10~0.14;Si:0.20~0.40;Mn:0.40~1.20;Co:0.5~3.5;P:≤0.020;S:≤0.010;Cr:8.50~10.50;Mo:1.40~1.60;V:0.18~0.25;N:0.015~0.03;Ni:0.1~0.3;Nb:0.05~0.08;Al≤0.02;B≤0.03;Fe:余量。
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