[发明专利]抗干扰厚膜混合集成电路的集成方法在审

专利信息
申请号: 201510882055.4 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN105405803A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 杨成刚;苏贵东;赵晓辉;黄晓山;刘学林;路兰艳 申请(专利权)人: 贵州振华风光半导体有限公司
主分类号: H01L21/70 分类号: H01L21/70;H01L23/60
代理公司: 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 代理人: 刘安宁
地址: 550018 贵*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 抗干扰厚膜混合集成电路的集成方法,是将金属与陶瓷的复合材料用作管基和管帽外层的材料,以满足从低频、中频到高频全频段的屏蔽要求,具体的集成方法是:在预先烧结成型的陶瓷管基、陶瓷管帽的外表面,采用涂覆金属浆料烧结或化学电镀的方式生长所需金属层,再进行半导体集成电路芯片和片式元器件的装贴、引线键合和封帽;这样,管基和管帽用陶瓷材料和金属材料二者有机结合,即实现从低频到高频的电磁屏蔽,使封装内外电磁环境达到良好的隔离,从而实现提高厚膜混合集成电路抗干扰能力的目的。用本方法生产的器件广泛应用于航天、航空、船舶、电子、通讯、医疗设备、工业控制等领域,特别适用于装备系统小型化、高频、高可靠的领域。
搜索关键词: 抗干扰 混合 集成电路 集成 方法
【主权项】:
抗干扰厚膜混合集成电路的集成方法,其特征是将金属与陶瓷的复合材料用作管基和管帽的材料,以满足从低频、中频到高频全频段的屏蔽要求,具体的集成方法是:在预先烧结成型的陶瓷管基、陶瓷管帽的外表面,采用涂覆金属浆料烧结或化学电镀的方式生长所需金属层,再进行半导体集成电路芯片和片式元器件的装贴、引线键合和封帽;这样,管基和管帽将陶瓷材料和金属材料二者有机结合,即实现从低频到高频的电磁屏蔽,使封装内外电磁环境达到良好的隔离,从而实现提高厚膜混合集成电路抗干扰能力的目的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州振华风光半导体有限公司,未经贵州振华风光半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510882055.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top