[发明专利]一种涂布系统及利用该涂布系统制备纳米银线导电薄膜的方法

摘要

本发明涉及光学薄膜，尤其涉及一种涂布系统、一种纳米银线导电薄膜及其制备方法。为了解决现有纳米银线导电薄膜生产方法导致的纳米银线导电膜表面电阻分布均匀性不好、点缺陷较多和生产效率不高的问题，本发明提供一种涂布系统、纳米银线导电薄膜及其制备方法。所述涂布系统包括放卷系统，预热整理烘箱，涂液上料系统，烘箱，压合系统，喷涂系统，紫外光固化系统，收卷系统。本发明提供的涂布系统制备得到的导电膜的表面电阻分布较均匀，点缺陷较少，在导电层涂层厚度一定的条件下，可以降低电阻，提高导电效率，同时，生产效率也有显著提高。

主权项

1.一种光学薄膜的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括放卷系统，预热整理烘箱，涂液上料系统，烘箱，压合系统，喷涂系统，紫外光固化系统，收卷系统；薄膜基材由放卷系统放卷，先经预热整理烘箱预热整理，之后经过涂液上料系统，在薄膜的表面涂布上涂液，之后，带有涂液的薄膜经烘箱干燥，经压合系统压实涂层，经喷涂系统对薄膜进行保护层喷涂，带保护层的薄膜在溶剂挥发后进入紫外光固化系统进行光固化反应，保护层固化后薄膜经收卷系统收卷，涂布过程完成；所述喷涂系统的喷涂头由间隔为10‑20cm的喷嘴组成，喷嘴的直径在0.005‑0.02mm,采用高压无气喷涂方式，压力范围0.5‑5MPa；所述涂液上料系统由狭缝涂布头、背辊、前真空吸附辊和后真空吸附辊组成；真空吸附辊的真空度能够调节，真空度最低要达到‑0.02MPa；真空吸附辊的辊直径为100‑300mm，真空吸附辊的辊表面吸附孔直径1‑3mm，总开孔面积占辊表面积的比例为5‑30％。