[发明专利]平面肖特基势垒二极管在审

专利信息
申请号: 201510946666.0 申请日: 2015-12-17
公开(公告)号: CN105552119A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 马文力;杨勇;谭德喜;姚伟明;付国振 申请(专利权)人: 扬州国宇电子有限公司
主分类号: H01L29/73 分类号: H01L29/73
代理公司: 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 代理人: 胡思棉
地址: 225101 江苏省扬*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种平面肖特基势垒二极管,包括N型重掺杂硅衬底、N型轻掺杂外延层、P型重掺杂环区、薄氧化层、场氧化层、肖特基势垒层、多层金属层;其特征在于在P型重掺杂环区外侧的N型轻掺杂外延层中设置有P型轻掺杂环区,薄氧化层位于P型重掺杂环区和P型轻掺杂环区上面,场氧化层位于部分P型轻掺杂环区上方及其外侧的N型轻掺杂外延层上方,肖特基势垒层形成于在部分P型重掺杂环区上面及N型轻掺杂外延层上面。本发明二极管可有效提高P型重掺杂环区的耐压效率,进而可以通过降低P型重掺杂环区的结深,进一步增强肖特基势垒区的表面电场,从而提高平面肖特基势垒的抗雷击能力,并能够降低正向导通压降、提高正向浪涌能力。
搜索关键词: 平面 肖特基势垒二极管
【主权项】:
一种平面肖特基势垒二极管,其包括N型重掺杂硅衬底、在所述N型重掺杂硅衬底上生长的N型轻掺杂外延层、在所述N型轻掺杂外延层中设置有P型重掺杂环区、位于所述P型重掺杂环区上面的薄氧化层、位于所述薄氧化层外侧的场氧化层、位于薄氧化层内侧的肖特基势垒层,位于所述场氧化层、薄氧化层、肖特基势垒层上面的多层金属层,及位于所述N型重掺杂硅衬底下面的多层金属层,其特征在于在在所述P型重掺杂环区外侧的所述N型轻掺杂外延层中设置有P型轻掺杂环区,所述薄氧化层位于所述P型重掺杂环区和所述P型轻掺杂环区上面,所述场氧化层位于部分所述P型轻掺杂环区上方及所述P型轻掺杂环区外侧的N型轻掺杂外延层上方,所述肖特基势垒层形成于部分所述P型重掺杂环区上面及所述N型轻掺杂外延层上面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州国宇电子有限公司,未经扬州国宇电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510946666.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top