[发明专利]光学防伪元件及其制备方法有效
| 申请号： | 201510954137.5 | 申请日： | 2015-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN106891637B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;吴远启;李欣毅;朱军;张巍巍;张昊宇 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/378 | 分类号： | B42D25/378;B42D25/45 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 曹寒梅;肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学防伪领域，公开了一种光学防伪元件及其制备方法，该方法包括：在基材的同一表面上形成具有第一区域和第二区域的起伏结构层，其中所述第一区域中的起伏结构表面的比体积小于所述第二区域中的起伏结构表面的比体积；在所述起伏结构层上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，且所述保护层在所述第一区域中的最小厚度大于所述保护层在所述第二区域中的最小厚度；以及将所述光学防伪元件置于能与所述镀层反应的氛围中，直到所述第二区域中的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域中的镀层得以保留为止。本发明工艺简单，生产高效，成本低廉，且能够实现镀层的精准镂空并提高防伪效果。 | ||
| 搜索关键词： | 镀层 第二区域 第一区域 起伏结构 光学防伪元件 保护层 制备 防伪效果 光学防伪 同一表面 镂空 基材 腐蚀 保留 生产 | ||
【主权项】：
1.一种光学防伪元件的制备方法，该方法包括：在基材的同一表面上形成具有第一区域和第二区域的起伏结构层，其中所述第一区域中的起伏结构表面的比体积小于所述第二区域中的起伏结构表面的比体积；在所述起伏结构层上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，且所述保护层在所述第一区域中的最小厚度大于所述保护层在所述第二区域中的最小厚度；以及将所述光学防伪元件置于能与所述镀层反应的氛围中，直到所述第二区域中的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域中的镀层得以保留为止，其中，所述第一区域中同时含有深宽比大于0.3和小于0.3的起伏结构。
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