[发明专利]一种极紫外光学基底的清洁处理方法在审
| 申请号： | 201510962204.8 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN105583186A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 姚舜;喻波;金春水 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种极紫外光学基底的清洁处理方法，解决现有清洗光学基底的方法均会对其面形造成影响的技术问题。该方法包括以下步骤：第一步：使用有机溶剂对极紫外光学基底进行手工擦拭；第二步：将手工擦拭后的极紫外光学基底进行超声波清洗；第三步：将经过超声波清洗的极紫外光学基底进行慢拉脱水处理；第四步：酒精烘干第三步处理后的极紫外光学基底。本发明提供的方法通过手工擦拭、低功率超声波清洗、慢拉脱水、酒精烘干流程实现了能够有效并极大降低清洗过程对基底产生的影响。使用手工擦拭，在超声波功率较小的情况下依然可以做到对极紫外光学基底的有效的清洁作用。使用较小的超声波功率，极大的降低了超声波清洗对基底表面面形等的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 光学 基底 清洁 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种极紫外光学基底的清洁处理方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：第一步：使用有机溶剂对极紫外光学基底进行手工擦拭；第二步：将手工擦拭后的极紫外光学基底进行超声波清洗；第三步：将经过超声波清洗的极紫外光学基底进行慢拉脱水处理；第四步：酒精烘干第三步处理后的极紫外光学基底。
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