[发明专利]一种测量标尺、以及制造方法和使用方法

摘要

本发明揭示一种测量标尺、及其制造方法和使用方法，本发明提供一种测量标尺，位于阵列基板或彩膜基板的像素区域外，该测量标尺包括多个标记图形，该标记图形由阵列基板或彩膜基板的任两层图案的材料形成，通过该测量标尺目视该两层图案的线宽单边蚀刻量和该两层图案之间的重合精度的偏移值。本发明结合阵列基板或彩膜基板上的制造过程中的图案成形机制，制造位于像素区域外的测量标尺，本发明测量标尺不采用绝对标尺进行衡量，而采用对比的方法，消除了绝对标尺本身的精度误差问题，并且可以直接读出具体的线宽单边蚀刻量和重合精度的偏移值；本发明测量标尺在蚀刻前后任何工程段均可使用，消除了量测设备误差，方便异常追踪和进行试验。

主权项

1.一种测量标尺，其特征在于：位于阵列基板或彩膜基板的像素区域外，该测量标尺包括多个标记图形，该标记图形由阵列基板或彩膜基板的任两层图案的材料形成，通过该测量标尺目视该两层图案的线宽单边蚀刻量和该两层图案之间的重合精度的偏移值；所述测量标尺包括重叠区域不相同的多个标记图形；所述测量标尺包括与栅极线平行的X方向测量标尺和与数据线平行的Y方向测量标尺，所述Y方向测量标尺由所述X方向测量标尺顺时针旋转90度形成；所述X方向测量标尺由n个标记图形构成，其中n个标记图形的重叠区域从x至y，以t单位的递增或递减，当递增时，(x－y)/n＝t，x≥y；当递减时，(y‑x)/n＝t，y≥x。