[发明专利]曝光设备及器件制造方法

摘要

通过放置于平台(14A、14B)下方的测量杆(71)具有的多个编码器头、Z头等，利用放置在微动载台(WFS1,WFS2)下表面的光栅，在投影光学系统(PL)的正下方及主要对准系统(AL1)的正下方，分别测量曝光中及对准中的晶圆载台(WST1,WST2)的各个位置信息。由于将支撑投影光学系统(PL)的主框架(BD)和测量杆(71)分离，因此与主框架和测量杆一体时不同，不致发生因内部应力(也包括热应力)造成测量杆的变形，及振动从主框架传达至测量杆等。因此可精确测量晶圆载台的位置信息。

主权项

一种曝光设备，所述曝光设备经由被第一支撑构件支撑的光学系统利用能量光束对物体曝光，所述曝光设备包括：移动体，所述移动体保持所述物体，并能够沿着指定的二维平面移动；引导面形成构件，所述引导面形成构件形成所述移动体沿着所述二维平面移动时使用的引导面；第一驱动系统，所述第一驱动系统驱动所述移动体；第二支撑构件，所述第二支撑构件在与所述光学系统相反的侧上与所述引导面形成构件分开地放置，穿过所述引导面形成构件，以与所述第一支撑构件分离；第一测量系统，所述第一测量系统包括第一测量构件，所述第一测量构件用测量光束照射与所述二维平面平行的测量面并接收来自所述测量面的光，并且所述第一测量系统利用所述第一测量构件的输出来获得所述移动体至少在所述二维平面内的位置信息，所述测量面被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的一个处，以及所述第一测量构件的至少一部分被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的另一个处；以及第二测量系统，所述第二测量系统获得所述第二支撑构件的位置信息。