[发明专利]包括非晶气体阻隔层的设备有效
申请号: | 201511028482.2 | 申请日: | 2015-11-10 |
公开(公告)号: | CN105590635B | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 程宇航;K·W·威尔曼;M·西格勒;黄晓岳;S·弗兰岑 | 申请(专利权)人: | 希捷科技有限公司 |
主分类号: | G11B5/40 | 分类号: | G11B5/40 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉;项丹 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 设备,其包括:近场换能器(NFT);被定位在NFT的至少一部分上的非晶气体阻隔层;以及被定位在气体阻隔层的至少一部分上的耐磨层。 | ||
搜索关键词: | 包括 气体 阻隔 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于磁存储的设备,包括:近场换能器NFT;被定位成毗邻所述NFT的写极;被定位在所述NFT的至少一部分上和所述写极的至少一部分上的非晶气体阻隔层;以及被定位在气体阻隔层的至少一部分上的耐磨层。
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