[发明专利]一种光刻机运动台系统和光刻机有效

专利信息
申请号: 201511031831.6 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN106933052B 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 方伟 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光刻机运动台系统和光刻机,其中,所述光刻机运动台系统,包括基座台和位于基座台上方的工件台,还包括设置在基座台和工件台之间的随动台,所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。本发明提供的技术方案,通过在基座台和工件台之间增加一个对工件台作跟随运动的随动台,将随动台上表面作为工件台的气浮支撑面,即使是大行程工件台也无需加工大面积气浮支撑面,使气浮式工件台的行程不再受限,大大拓展了使用范围,另外,因随动台面积有限,加工制造更容易,完全能够达到气浮支撑面所需的平整度和刚度,特别是在大行程工件台的领域,可以有效降低制造成本和制造难度。
搜索关键词: 一种 光刻 机运 系统
【主权项】:
1.一种光刻机运动台系统,包括基座台和位于基座台上方的工件台,其特征在于,还包括设置在基座台和工件台之间的随动台,所述随动台对所述工件台作跟随运动,所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面,所述工件台通过第一驱动单元驱动,所述随动台通过第二驱动单元驱动,所述第一驱动单元驱动所述工件台在基座台平面上做二维运动,所述第二驱动单元驱动所述随动台在基座台平面上做一维或二维运动。
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