[发明专利]高相对密度低电阻率氧化铟锡靶材的制备方法

摘要

高相对密度低电阻率氧化铟锡靶材的制备方法是一种以常压烧结法制备ITO靶材的方法。本发明是利用化学共沉淀法制备氧化铟锡复合粉体，在氧化铟锡粉体中加入复合烧结助Nb₂O₅‑Bi₂O₃球磨混合后，加入粘结剂进行造粒并干燥，对造粒过后的氧化铟锡粉体模压成型得到初坯，再对初坯冷等静压得到素坯，最后素坯在高温氧氛围下烧结得到氧化铟锡靶材。本发明工艺简单，过程容易控制，降低了烧结温度的同时还提升了电性能，设备简单，所需生产成本较低，烧结出的氧化铟锡靶材成分均匀且相对密度高、电阻率低。

主权项

1.高相对密度低电阻率氧化铟锡靶材的制备方法，其特征在于：以金属铟、四氯化锡、硝酸为原料，十六烷基三甲基溴化铵为分散剂，金属铟、四氯化锡的加入量依据混合溶液中换算后的氧化铟和氧化锡质量比In2O3：SnO2＝90：10加入，用化学共沉淀法制备氧化铟锡复合粉体；所述化学共沉淀法是指把铟溶于硝酸，四氯化锡溶于二次去离子水中，待铟完全溶解后，将两种溶液混合后加入分散剂得到混合溶液，向混合溶液中加入碱性中和剂经共沉淀得到铟锡氢氧化物沉淀，洗涤杂质离子、固液分离、干燥、煅烧铟锡氢氧化物得到氧化铟锡复合粉体；然后在氧化铟锡复合粉体中加入复合烧结助剂球磨混合后，加入粘结剂进行造粒并干燥，对造粒过后的粉体先模压成型得到初坯，再对初坯进行冷等静压得到素坯，最后把素坯在氧氛围中进行烧结得到氧化铟锡靶材；所述的复合烧结助剂为Nb2O5和Bi2O3；所述的复合烧结助剂中Nb2O5和Bi2O3的质量比为1～3，加入量为氧化铟锡复合粉体质量的2％～10％；所述的粘结剂为聚乙烯醇或聚甲基丙烯酸丁酯或聚乙烯醇缩丁醛；所述的分散剂十六烷基三甲基溴化铵的质量为铟锡氢氧化物质量的0.5％～2％。