[实用新型]一种用于腔室门的密封装置有效
申请号: | 201520146782.X | 申请日: | 2015-03-16 |
公开(公告)号: | CN204481006U | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
发明(设计)人: | 李广义 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;张磊 |
地址: | 100016 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于腔室门的密封装置,通过在腔室隔板外侧的门孔周围设置第一磁铁,在第一磁铁以外的隔板外侧的腔室门移动区域设置第二磁铁,以及在腔室门的内侧水平滑动设置第三磁铁,并利用磁铁之间同极相斥、异性相吸的原理,通过在第三磁铁与第一磁铁之间产生相反极性相吸,使第三磁铁通过水平滑动与第一磁铁吸合,将门孔密封;通过在第三磁铁与第一、第二磁铁之间产生相同极性相斥,使第三磁铁通过水平滑动与第一磁铁分离,将门孔打开。本实用新型在机械手退出腔室后,能够及时对腔室进行磁性密封,具有结构简单、易实现的显著特点,可广泛应用于半导体清洗、氧化炉等设备的密封。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 腔室门 密封 装置 | ||
【主权项】:
一种用于腔室门的密封装置,其特征在于,包括:腔室隔板,设于腔室与机械手运动区域之间,用于将腔室与其他区域相隔离;所述腔室隔板设有门孔,用于机械手向腔室传取晶片;所述腔室隔板外侧平行活动设有与所述门孔相配合的腔室门,用于受驱动沿直线平移至所述门孔对应位置或反向移开;第一磁铁、第二磁铁和第三磁铁,所述第一磁铁设于所述腔室隔板外侧,并包围所述门孔;所述第二磁铁设于所述腔室隔板外侧,并位于所述第一磁铁以外的所述腔室门的移动区域;所述第三磁铁水平滑动设于所述腔室门的内侧;其中,当所述腔室门移至所述门孔对应位置时,通过在所述第三磁铁与所述第一磁铁之间产生相反极性相吸,使所述第三磁铁通过水平滑动与所述第一磁铁吸合,将所述门孔密封;通过在所述第三磁铁与所述第一、第二磁铁之间产生相同极性相斥,使所述第三磁铁通过水平滑动与所述第一磁铁分离,将所述门孔打开,并与所述第二磁铁保持间隙,以跟随所述腔室门移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造