[实用新型]晶片组件以及成像系统有效
申请号: | 201520152272.3 | 申请日: | 2015-03-18 |
公开(公告)号: | CN204422960U | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 达靖虹 | 申请(专利权)人: | 达靖虹 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G02B5/20 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 100000 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种晶片组件,该晶片组件包括依次叠置的多层成像基片,还包括侧部基片和基片固定单元,侧部基片位于多层成像基片侧面,基片固定单元将多层成像基片与侧部基片固定,成像基片上雕刻有图像信息,侧部基片包括反光膜。本实用新型由于采用的反光膜既能够遮挡光线,又可以将投向侧部基片周边的绝大部分光线反射走,因此不会导致晶片组件过热,以免晶片组件变形、损坏。本实用新型也涉及包括该晶片组件的成像系统。 | ||
搜索关键词: | 晶片 组件 以及 成像 系统 | ||
【主权项】:
一种晶片组件,该晶片组件包括依次叠置的多层成像基片,还包括侧部基片和基片固定单元,侧部基片位于多层成像基片侧面,基片固定单元将多层成像基片与侧部基片固定,成像基片上雕刻有图像信息,其特征在于侧部基片包括反光膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于达靖虹;,未经达靖虹;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520152272.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于投影显示系统的液冷散热装置
- 下一篇:一种新型双反相机