[实用新型]一种掩模版的夹持装置有效
申请号: | 201520154596.0 | 申请日: | 2015-03-18 |
公开(公告)号: | CN204515341U | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 游定平 | 申请(专利权)人: | 深圳市龙图光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人: | 陈琳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及掩模版技术领域,具体涉及一种掩模版的夹持装置,包括总架,还包括:固定组件,其包括可调支架和掩模版固定件,该掩模版固定件设置在可调支架上,用于固定掩模版;底部支撑架,其与可调支架连接,并与总架转动连接,该可调支架通过底部支撑架在一定倾斜角度上进行摆动。本实用新型通过设计一种掩模版的夹持装置,在检查掩模版前夹紧掩模版,实现对大尺寸掩膜版进行人工外观检查,降低成本;同时掩模版可通过夹持装置进行角度旋转,提高检查准确性,提高检查效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 模版 夹持 装置 | ||
【主权项】:
一种掩模版的夹持装置,包括总架,其特征在于,还包括:固定组件,其包括可调支架和掩模版固定件,该掩模版固定件设置在可调支架上,用于固定掩模版;底部支撑架,其与可调支架连接,并与总架转动连接,该可调支架通过底部支撑架在一定倾斜角度上进行摆动。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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