[实用新型]一种半导体硅片清洗釜

摘要

本实用新型公开了一种半导体硅片清洗釜，包括釜体及与釜体密封连接釜盖，还包括插入釜体内部的清洗管，清洗管外端设有截止阀，在截止阀与釜体之间的清洗管上连接超生波发生器，在釜体壁上均布硅片吸盘连通孔，在釜体的外壁设有与硅片吸盘连通孔连通的负压连接通道，在釜体的内壁设有与硅片吸盘连通孔连通的硅片吸盘，硅片吸盘包括一端与硅片吸盘连通孔连通的连接管，连接管的另一端连接均布吸附微孔的吸附板，还包括受阀门控制的釜体排气口。本实用新型具有操作简单、清洗效果好、清洗效率高等特点。

主权项

一种半导体硅片清洗釜，其特征在于：包括釜体（1）及与釜体（1）密封连接釜盖（2），还包括插入釜体（1）内部的清洗管（3），所述清洗管（3）外端设有截止阀，在所述截止阀与所述釜体（1）之间的清洗管（3）上连接超生波发生器（4），在所述釜体（1）壁上均布硅片吸盘连通孔（5），在所述釜体（1）的外壁设有与硅片吸盘连通孔连通的负压连接通道（9），在所述釜体（1）的内壁设有与所述硅片吸盘连通孔（5）连通的硅片吸盘（6），所述硅片吸盘（6）包括一端与硅片吸盘连通孔（5）连通的连接管（6‑1），所述连接管（6‑1）的另一端连接均布吸附微孔（6‑2）的吸附板（6‑3），还包括受阀门控制的釜体排气口（7）。