[实用新型]一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环有效
| 申请号： | 201520328483.8 | 申请日： | 2015-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN204752844U | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 柴智;刘亿军;王燚 | 申请（专利权）人： | 沈阳拓荆科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 李绪岩 |
| 地址： | 110179 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。本实用新型可针对不同沉积反应的真空要求可匹配不同的小孔数量及小孔孔径的陶瓷环，且保证抽气泵抽气时，腔室内部向外部抽气的气流均匀稳定。另外腔室内通入高能量离子时，可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 备用 陶瓷 | ||
【主权项】：
一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，其特征在于：在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。
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