[实用新型]CVI沉积碳连续生长炉有效
申请号: | 201520506848.1 | 申请日: | 2015-07-14 |
公开(公告)号: | CN204779796U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 李丙科;钱锋;姚飞;孙丁群;宋银海 | 申请(专利权)人: | 东莞帕萨电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26 |
代理公司: | 广东莞信律师事务所 44332 | 代理人: | 曾秋梅 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于生长炉技术领域,尤其涉及一种CVI沉积碳连续生长炉,包括加热炉体、真空系统、进料真空腔室、出料真空腔室、导向机构、牵引机构、燃烧器和反应腔室,所述反应腔室置于所述加热炉体内,所述导向机构置于所述进料真空腔室内,所述牵引机构设置于所述出料真空腔室内,所述进料真空腔室、所述反应腔室和所述出料真空腔室均与所述真空系统连接,所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均与所述反应腔室连接,所述燃烧器与所述反应腔室连通。相对于现有技术,本实用新型在真空状态下进行碳沉积,形成的碳沉积层致密性好、均匀性好,而且连续性佳,效率高,需要的气体量少。而且导向机构和牵引机构的设置可以大大提高碳沉积的效率。 | ||
搜索关键词: | cvi 沉积 连续 生长 | ||
【主权项】:
CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:包括加热炉体、真空系统、进料真空腔室、出料真空腔室、导向机构、牵引机构、燃烧器和反应腔室,所述反应腔室置于所述加热炉体内,所述导向机构置于所述进料真空腔室内,所述牵引机构设置于所述出料真空腔室内,所述进料真空腔室、所述反应腔室和所述出料真空腔室均与所述真空系统连接,所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均与所述反应腔室连接,所述燃烧器与所述反应腔室连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的