[实用新型]用于等离子体增强化学气相沉积的设备

摘要

本实用新型公开了用于等离子体增强化学气相沉积的设备，包括：炉体，炉体内限定出容纳腔室；加热装置，加热装置设在炉体的侧壁上；沉积单元，沉积单元位于容纳腔室中，沉积单元顶部具有气体入口，沉积单元内限定出沉积腔室，沉积腔室包括多个彼此隔开的子沉积腔室，每一个子沉积腔室中具有两个平行间隔设置的玻璃基板，其中，玻璃基板中的一个与电极相连，玻璃基板中的另一个接地；以及气体管道，气体管道穿过炉体与气体入口相连，气体管道包括位于容纳腔室外的第一管段和位于容纳腔室内的第二管段，第一管段和/或第二管段上具有预热组件。该设备可以有效提高沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。

主权项

一种用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，包括：炉体，所述炉体内限定出容纳腔室；加热装置，所述加热装置设在所述炉体的侧壁上；沉积单元，所述沉积单元位于所述容纳腔室中，所述沉积单元顶部具有气体入口，所述沉积单元内限定出沉积腔室，所述沉积腔室包括多个彼此隔开的子沉积腔室，每一个所述子沉积腔室中具有两个平行间隔设置的玻璃基板，其中，所述玻璃基板中的一个与电极相连，所述玻璃基板中的另一个接地；以及气体管道，所述气体管道穿过所述炉体与所述气体入口相连，所述气体管道包括位于所述容纳腔室外的第一管段和位于所述容纳腔室内的第二管段，所述第一管段和/或第二管段上具有预热组件。