[实用新型]一种刻蚀硅片的水膜间歇去水装置

摘要

本实用新型公开了一种刻蚀硅片的水膜间歇去水装置，包括上部的滤水装置和下部的压辊；滤水装置朝向硅片的一面具有条形槽，在条形槽内设置连续的转扇，转扇又包括连接在条形槽上的转轴以及等距分布在转轴上的扇叶，位于条形槽内端处的转扇由电机带动转动，相邻的两个转扇之间相互由扇叶带动转动，扇叶部分位于条形槽外；压辊的轴向上开设线槽，在线槽内设置条形凸起。与现有技术相比，本实用新型的硅片镀完水膜后，经过滤水装置和压辊之间的硅片滤水过道，可以将硅片表面多余的水分给去除，避免多余的水进入硅片的刻蚀槽降低酸度，而具有条形凸起的压辊在转动时可以间歇缩小硅片与转扇的间距，可将刻蚀槽表面积水去除，防止进一步融入酸性溶液。

主权项

 一种刻蚀硅片的水膜间歇去水装置，其特征在于：包括上部的滤水装置（1）和下部的压辊（2），滤水装置（1）和压辊（2）之间为硅片滤水过道；所述滤水装置（1）朝向硅片的一面具有条形槽，在条形槽内设置有若干连续的转扇（3），所述转扇（3）又包括连接在条形槽上的转轴（31）以及等距分布在转轴（31）上的扇叶（32），位于条形槽内端处的转扇（3）由电机带动转动，相邻的两个转扇（3）之间相互由扇叶（32）带动转动，所述扇叶（32）部分位于条形槽外；所述压辊（2）的轴向上开设线槽（7），在线槽（7）内设置条形凸起（8），所述条形凸起（8）与线槽（7）内底部之间具有弹簧。