[实用新型]一种磁控溅射镀膜用的平面阴极有效
申请号: | 201520718921.1 | 申请日: | 2015-09-16 |
公开(公告)号: | CN204959025U | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 郭爱云;赵灿东;周学卿;黄定平 | 申请(专利权)人: | 河源市璐悦自动化设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 | 代理人: | 姚迎新 |
地址: | 517000 广东省河源市源城*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及磁控溅射装置领域,特别涉及一种磁控溅射镀膜用的平面阴极。本实用新型的一种磁控溅射镀膜用的平面阴极包括溅射靶、靶套、真空腔体、绝缘座、阴极座、铜背板、可调磁极板和基片架。在本实用新型中,通过采用全水冷的方式对铜背板进行冷却,在生产过程中可以最大化的带走溅射产生的热量;而且还通过采用可调磁极板全水冷的方式进行磁极板冷却,因此磁场的稳定性强,可以长期保持磁场的稳定性;另外,各部件的结合处采用静密封,密封效果好,有效地防止了漏水、漏气和阴极短路现象的发生,减少了维修成本,使得本实用新型使用寿命增长。本实用新型溅射靶利用率高、溅射沉积均匀、阴极冷却效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 镀膜 平面 阴极 | ||
【主权项】:
一种磁控溅射镀膜用的平面阴极,其特征在于,包括溅射靶、靶套、真空腔体、绝缘座、阴极座、铜背板、可调磁极板、基片架,所述靶套通过第一真空密封圈与所述真空腔体密封连接;所述绝缘座通过第二真空密封圈与所述靶套连接;所述阴极座通过第三真空密封圈与所述绝缘座连接;所述铜背板通过第四真空密封圈与所述阴极座连接;所述阴极座与所述铜背板之间形成冷却水腔;所述溅射靶固定在所述铜背板上;所述可调磁极板固定在所述冷却水腔内,所述可调磁极板与所述基片架连接。
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