[实用新型]用于气液反应设备的射流装置有效
申请号: | 201520757740.X | 申请日: | 2015-09-28 |
公开(公告)号: | CN205073986U | 公开(公告)日: | 2016-03-09 |
发明(设计)人: | 谢永生;谢丽娟;王琴 | 申请(专利权)人: | 攀枝花钢城集团瑞天安全环保有限公司 |
主分类号: | B01J10/00 | 分类号: | B01J10/00;B01J19/26 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 许泽伟 |
地址: | 617023 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种射流装置,尤其是一种用于气液反应设备的射流装置。本实用新型提供了一种气液混合效率更高的用于气液反应设备的射流装置,包括花孔顶盖,花孔顶盖的上部设置有进液口,下部设置有液体喷射孔;还包括气液混合室,所述花孔顶盖安装在气液混合室的顶部;所述气液混合室的侧壁上设置有气体入口,所述气液混合室的底部设置有排出口。相对传统射流器仅在气液反应设备内进行反应,本实用新型涉及的射流装置的结构设置使得气体和液体首先在气液混合室进行预反应,为后续物料反应节约了时间。 | ||
搜索关键词: | 用于 反应 设备 射流 装置 | ||
【主权项】:
用于气液反应设备的射流装置,包括花孔顶盖(2),花孔顶盖(2)的上部设置有进液口,下部设置有液体喷射孔;其特征在于:还包括气液混合室(3),所述花孔顶盖(2)安装在气液混合室(3)的顶部;所述气液混合室(3)的侧壁上设置有气体入口,所述气液混合室(3)的底部设置有排出口。
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