[实用新型]用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置有效
| 申请号： | 201520792020.7 | 申请日： | 2015-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN205122531U | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 姜文兴 | 申请（专利权）人： | 科闳电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/16 | 分类号： | H01J37/16;H01J37/02;H05H7/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述遮蔽装置包含多个遮蔽单元，用于遮蔽所述等离子反应室元件的至少一个非处理区域，以暴露所述等离子反应室元件的至少一个目标处理区域。所述遮蔽装置还包含至少一固定机构，用于将所述遮蔽装置与所述等离子反应室元件结合，进而使所述遮蔽装置能快速地与所述遮蔽所述等离子反应室元件组合或拆除。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子 反应 元件 表面 处理 遮蔽 装置 | ||
【主权项】：
一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，其特征在于，所述等离子反应室元件的表面具有至少一目标处理区域和至少一非处理区域，所述遮蔽装置设置在所述等离子反应室元件的周围，用于遮蔽所述等离子反应室元件的所述至少一非处理区域并且暴露所述至少一目标处理区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科闳电子股份有限公司，未经科闳电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520792020.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有缓冲功能的晶圆传送盒
- 下一篇：一种新型预付费微型断路器
