[实用新型]缓冲型陶瓷吸嘴有效
申请号: | 201520808308.9 | 申请日: | 2015-10-20 |
公开(公告)号: | CN205050816U | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 李永娥 | 申请(专利权)人: | 李永娥 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518052 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种缓冲型陶瓷吸嘴,该吸嘴包括陶瓷吸嘴头、吸嘴安装杆和缓冲连接管;缓冲连接管的一端固定在吸嘴安装杆内,陶瓷吸嘴头的一端固定在缓冲连接管的另一端内,且缓冲连接管的另一端设有对陶瓷吸嘴头进行限位的定位环,陶瓷吸嘴头的另一端贯穿定位环后延伸出吸嘴安装杆。本实用新型陶瓷吸嘴头接触芯片时,所产生的作用力可以传导至缓冲连接管,进而缓冲连接管发生形变,陶瓷吸嘴头会因缓冲连接管产生的形变而达到控制陶瓷吸嘴头的压力从而达到缓冲的效果,避免LED芯片分选、LED固晶、激光器件芯片及半导体器件在拾取、粘贴工艺中出现压伤、损坏的现象。同时,设有对陶瓷吸嘴头进行限位的定位环,有助于位置及方向的定位。 | ||
搜索关键词: | 缓冲 陶瓷 | ||
【主权项】:
一种缓冲型陶瓷吸嘴,其特征在于,包括用于接触芯片并对芯片进行吸取的陶瓷吸嘴头、用于固定陶瓷吸嘴头的吸嘴安装杆、用于工作时为陶瓷吸嘴头与吸嘴安装杆之间提供缓冲作用力的缓冲连接管;所述缓冲连接管的一端固定在吸嘴安装杆内,所述陶瓷吸嘴头的一端固定在缓冲连接管的另一端内,且所述缓冲连接管的另一端设有对陶瓷吸嘴头进行限位的定位环,所述陶瓷吸嘴头的另一端贯穿定位环后延伸出吸嘴安装杆。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造