[实用新型]用于直接光刻和数字微镜设备的装置和系统

摘要

本实用新型描述了用于执行光刻工艺的系统和装置。所述系统和装置可包括：光源，所述光源能够发射激光；镜面，所述镜面定位成使所述激光折射；镜面阵列(或数字微镜设备)，所述镜面阵列配置成用于反射所述激光；透镜，所述透镜配置成用于折射所述激光；载物台，所述载物台能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度；其中，所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在基本上垂直于所述X轴方向的Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。

主权项

一种用于直接光刻的装置，所述装置包括：光源，所述光源能够发射激光；镜面，所述镜面定位成使所述光源发射的所述激光折射；镜面阵列，所述镜面阵列配置成用于反射所述镜面折射的所述激光；透镜，所述透镜配置成用于折射所述镜面阵列反射的所述激光；载物台，所述载物台能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度；其中，所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在基本上垂直于所述X轴方向的Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。