[实用新型]一种可视化系统及工艺腔室有效
| 申请号： | 201520867955.7 | 申请日： | 2015-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN205247063U | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 森育雄 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 何焜 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请公开了视觉对准。本公开通常涉及相对于基板对准掩模的装置和方法。在一个实施方式中，用于对准的可视化系统包括双光源。双光源包括用于观察基板上的对准标记的第一光源，和用于观察掩模上的掩模开口或其他对准标记的第二光源。可发生第一光源和第二光源之间的切换以促进掩模相对于基板的对准。可视化系统也可在Z轴上致动以当成像掩模时将可视化系统聚焦，从而促进由于掩模整修或影响掩模尺寸的其他因素的相距原始或默认位置的掩模位移的确定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可视化 系统 工艺 | ||
【主权项】：
一种可视化系统，包括：第一光源，具有环形；第二光源，适合于导引光通过所述第一光源的中心；以及透镜，定位在所述第一光源和摄像机之间，所述摄像机导引通过所述第一光源的所述中心且适合于捕获通过所述透镜的图像。
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