[实用新型]一种用于半导体刻蚀机的带通滤波器有效
申请号: | 201520948040.9 | 申请日: | 2015-11-24 |
公开(公告)号: | CN205092834U | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 李光健;乔世波 | 申请(专利权)人: | 北京北广科技股份有限公司 |
主分类号: | H03H7/09 | 分类号: | H03H7/09 |
代理公司: | 北京市科名专利代理事务所(特殊普通合伙) 11468 | 代理人: | 陈朝阳 |
地址: | 100000 北京市顺*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体刻蚀机的带通滤波器,包括信号输入端口,信号输入端口依次串联有3阶高通LC滤波电路,3阶低通LC滤波电路,2阶低通LC滤波电路和信号输出端;信号输入端口的一端和信号输出端的一端均接地。本实用新型体积小、功率大、选频性能优异、带外抑制强、插入损耗和回波损耗小、可用于专用场合。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 刻蚀 带通滤波器 | ||
【主权项】:
一种用于半导体刻蚀机的带通滤波器,包括信号输入端口,其特征在于,信号输入端口依次串联有3阶高通LC滤波电路,3阶低通LC滤波电路,2阶低通LC滤波电路和信号输出端; 信号输入端口的一端和信号输出端的一端均接地。
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