[发明专利]溅镀靶材有效
| 申请号： | 201580001209.2 | 申请日： | 2015-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN105358734B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 池田真 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/04;C22C9/00 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种溅镀靶材，其能通过直流电源进行放电，且适用于形成静电容量方式的触控式面板用传感器薄膜的黑化层。本发明有关一种溅镀靶材，其具有铜系金属相与氧化物相的混合组织，氧含量为5原子％至30原子％，相对密度为85％以上，且体积电阻值为1.0×10‑2Ωcm以下。优选其铜系金属相的平均粒径为0.5μm至10.0μm，且氧化物相的平均粒径为0.05μm至7.0μm。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶材 | ||
【主权项】：
一种溅镀靶材，具有铜系金属相与氧化物相的混合组织，氧化物相为氧化铜相或铜合金氧化物相，所述溅镀靶材的氧含量为5原子％至30原子％，且相对密度为85％以上，体积电阻值为1.0×10‑2Ωcm以下。
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