[发明专利]Ag合金膜及Ag合金膜形成用溅射靶有效

专利信息
申请号: 201580002653.6 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN105793449B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 野中庄平;小见山昌三;岁森悠人 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C22C5/06 分类号: C22C5/06;C23C14/34;H01B1/02;H01B5/02
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司11018 代理人: 康泉,王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 该Ag合金膜含有0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu,剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。该溅射靶含有0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu,剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成,且氧浓度小于50质量ppm,溅射面的面积为0.25m2以上,Cu的面内浓度分布DCu(=(σCu/μCu)×100)为40%以下。
搜索关键词: ag 合金 形成 溅射
【主权项】:
一种Ag合金膜,其特征在于,具有如下组成:由0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu、0.5质量ppm以上且20质量ppm以下的Ca、以及剩余部分的Ag及不可避免的杂质构成。
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