[发明专利]立体观察装置用的控制装置、立体观察系统和立体观察装置的控制方法有效

专利信息
申请号: 201580003258.X 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN105830441B 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 西垣泰宏;沟口正和 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: H04N13/02 分类号: H04N13/02;A61B1/04;H04N5/225;H04N5/232
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 利用多个光学系统进行基于视差的立体观察的立体观察装置用的控制装置(100)具有开始时间取得部(104)、切断时间取得部(102)、非工作时间计算部(106)、判定部(108)。开始时间取得部(104)取得针对立体观察装置的通电开始的开始时间。切断时间取得部(102)取得针对立体观察装置的上次通电被切断的切断时间。非工作时间计算部(106)计算从切断时间到开始时间的经过时间即非工作时间。判定部(108)根据非工作时间判定是否需要进行对光学系统的光轴的偏移的影响进行校正的芯偏移校正。
搜索关键词: 立体 观察 装置 控制 系统 方法
【主权项】:
一种立体观察装置用的控制装置,该立体观察装置利用多个光学系统进行基于视差的立体观察,其中,所述控制装置具有:开始时间取得部,其取得针对所述立体观察装置的通电开始的开始时间;切断时间取得部,其取得针对所述立体观察装置的上次通电被切断的切断时间;非工作时间计算部,其计算从所述切断时间到所述开始时间的经过时间即非工作时间;以及判定部,其在所述非工作时间比规定时间长时,判定为需要进行芯偏移校正,在所述非工作时间不比规定时间长时,判定为不需要进行所述芯偏移校正,其中所述芯偏移校正是对所述光学系统的光轴的偏移的影响进行校正。
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