[发明专利]线位移评价方法、线位移评价装置以及记录介质有效
| 申请号： | 201580042215.2 | 申请日： | 2015-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN106662438B | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 斋藤雅宽;吉田亨 | 申请（专利权）人： | 新日铁住金株式会社 |
| 主分类号： | G01B21/20 | 分类号： | G01B21/20;B21D22/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 房永峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种线位移评价方法，是对成型出特征线的冲压成型中冲压成型品所产生的线位移进行评价的线位移评价方法，其特征在于，具有如下步骤：截面轮廓取得步骤，取得以横割上述冲压成型品所成型出的上述特征线的方式测量出的上述冲压成型品的截面轮廓；四阶微分系数计算步骤，对取得的上述截面轮廓的四阶微分系数进行计算；以及线位移评价步骤，基于计算出的上述截面轮廓的四阶微分系数，对上述线位移进行评价。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 评价 方法 装置 程序 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种线位移评价方法，是对成型出特征线的冲压成型中冲压成型品所产生的线位移进行评价的方法，其特征在于，具有如下步骤：截面轮廓取得步骤，取得以横割上述冲压成型品所成型出的上述特征线的方式测量出的上述冲压成型品的截面轮廓；四阶微分系数计算步骤，对取得的上述截面轮廓的四阶微分系数进行计算；以及线位移评价步骤，基于计算出的上述截面轮廓的四阶微分系数，对上述线位移进行评价。
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