[发明专利]气相生长装置及气相生长方法

摘要

实施方式的气相生长装置具备n个反应室，n为2以上的整数；主气体供给路，向n个反应室供给工艺气体；主质量流量控制器，设置于主气体供给路，控制工艺气体的流量；分支部，将主气体供给路分支；n条副气体供给路，在分支部分支，向n个反应室供给被分流的工艺气体；n个第一截止阀，设置在n条副气体供给路的分支部与n个反应室之间，以至分支部的距离比至反应室的距离短的方式配置，能够截断工艺气体的流动；以及n个副质量流量控制器，设置在n条副气体供给路的n个第一截止阀与n个反应室之间，控制流经n条副气体供给路的工艺气体的流量。

主权项

一种气相生长装置，其特征在于，具备：n个反应室，n为2以上的整数；主气体供给路，向所述n个反应室供给工艺气体；主质量流量控制器，设置于所述主气体供给路，控制流经所述主气体供给路的所述工艺气体的流量；分支部，将所述主气体供给路分支；n条副气体供给路，在所述分支部从所述主气体供给路分支，向所述n个反应室供给被分流的所述工艺气体；n个第一截止阀，设置在所述n条副气体供给路的所述分支部与所述n个反应室之间，以至所述分支部的距离比至所述反应室的距离短的方式配置，能够截断所述工艺气体的流动；以及n个副质量流量控制器，设置在所述n条副气体供给路的所述n个第一截止阀与所述n个反应室之间，控制流经所述n条副气体供给路的所述工艺气体的流量。