[发明专利]铜膜形成用组合物和使用其的铜膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580053151.6 申请日: 2015-09-14
公开(公告)号: CN107075681B 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 阿部徹司;斋藤和也;降幡泰久 申请(专利权)人: 株式会社ADEKA
主分类号: C23C18/08 分类号: C23C18/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供:涂布于基体上、以低于160℃进行加热从而可以得到具有充分导电性的铜膜的、不含微粒等固相的溶液状的铜膜形成用组合物。为一种铜膜形成用组合物,其含有:甲酸铜或其水合物0.1~3.0摩尔/kg;选自由下述通式(1)所示的化合物和下述通式(1’)所示的化合物组成的组中的至少1种化合物;和,下述通式(2)所示的哌啶化合物。
搜索关键词: 形成 组合 使用 制造 方法
【主权项】:
1.一种铜膜形成用组合物,其含有:甲酸铜或其水合物0.1~3.0摩尔/kg;选自由下述通式(1)所示的化合物和下述通式(1’)所示的化合物组成的组中的至少1种化合物;和,下述通式(2)所示的哌啶化合物,将所述甲酸铜或其水合物的含量设为1摩尔/kg时,以0.001~6.0摩尔/kg的范围含有选自由下述通式(1)所示的化合物和下述通式(1’)所示的化合物组成的组中的至少1种化合物,以0.1~6.0摩尔/kg的范围含有所述哌啶化合物,所述通式(1)中,R1和R2分别独立地表示氢原子、甲基或乙基,所述通式(1’)中,R3表示甲基或乙基,m表示0或1,所述通式(2)中,X表示氨基或羟基。
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