[发明专利]用于器件的覆盖物及用于制造用于器件的覆盖物的方法有效
| 申请号： | 201580053522.0 | 申请日： | 2015-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN106715326B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 安斯加尔·朔伊费勒 | 申请（专利权）人： | 追踪有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01L23/31 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;李兴斌 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 说明了一种用于电子器件(例如MEMS、BAW或SAW类型)的覆盖物。所述覆盖物包括至少一个层(5、6、7)，所述层具有带多个凸部(8、9、15)和/或凹部(10、11、16)的结构化部分(19、20、21)。此外，还提出用于制造这种覆盖物(1)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 器件 覆盖 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于器件的覆盖物，其中，所述覆盖物(1)包括至少一个层(5、6、7)，所述层具有带多个凸部(8、9、15)和/或凹部(10、11、16)的结构化部分(19、20、21、22)。
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