[发明专利]多孔二氧化硅系颗粒和清洁用化妆品有效

专利信息
申请号: 201580055639.2 申请日: 2015-11-05
公开(公告)号: CN106794995B 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 渡边慧;榎本直幸;三好康敬;小松通郎 申请(专利权)人: 日挥触媒化成株式会社
主分类号: C01B33/157 分类号: C01B33/157;A61K8/25;A61Q19/10
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 代理人: 周善来,李雪春
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明对在清洁用化妆品中用作磨砂剂的多孔二氧化硅系颗粒进行最优化。本发明的多孔二氧化硅系颗粒的平均圆度为0.1~0.5,微孔容积(Pv)为1.0~2.0ml/g,众数直径(Dm)为50~600μm,最大粒径(D100)与众数直径(Dm)之比(D100/Dm)为3.0以下,用1.0~1.4KPa的负荷涂擦30秒钟后的中位径(DR50)为0.5~25μm,最大粒径(DR100)为1~100μm。按照使用所述颗粒的清洁用化妆品,利用涂擦中与皮肤的摩擦产生的摩擦力摩擦皮肤,能够得到柔和的角质层剥脱效果,并且能够防止皮肤的损伤和对角质层造成的微小损伤。
搜索关键词: 多孔 二氧化硅 颗粒 清洁 化妆品
【主权项】:
一种多孔二氧化硅系颗粒,其特征在于,(i)平均圆度处于0.1~0.5的范围,(ii)微孔容积(Pv)处于1.0~2.0ml/g的范围,(iii)众数直径(Dm)处于50~600μm的范围,(iv)最大粒径(D100)与众数直径(Dm)之比(D100/Dm)为3.0以下。
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