[发明专利]制造图案化基底的方法有效
| 申请号： | 201580059713.8 | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107077066B9 | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 具世真;李美宿;柳亨周;金廷根;尹圣琇;朴鲁振;李济权;崔银英 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C07C43/215;C07C43/225;C07C217/84;C07D209/48;C07F7/18;C08F12/20;C08F12/22;C08F12/26;C08F12/32;C08F212/14;C08F220/10;C08F220/30;C08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;赵丹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于装置如电子器件或集成电路的制造过程，或者应用于另一些用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 图案 基底 方法 | ||
【主权项】：
一种制造图案化基底的方法，包括：形成包含嵌段共聚物的聚合物膜，在所述嵌段共聚物中自组装结构定向于经氧等离子体处理的基底的表面上。
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