[发明专利]用于虚设阵列泄漏减少的相变存储器单元注入有效

专利信息
申请号: 201580063464.X 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN107004693B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: L·J·刘;U·拉索;M·F·海因曼 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开内容的实施例描述了用于虚设阵列泄漏减少的相变存储器单元注入。在一个实施例中,一种装置包括多个相变存储器(PCM)元件,其中,所述多个PCM元件中的个体PCM元件是虚设单元,所述虚设单元包括底部电极层、设置在所述底部电极层上的选择器件层、设置在所述选择器件层上的中间电极层、设置在所述中间电极层上的相变材料层以及设置在所述相变材料层上的顶部电极层,其中,所述相变材料层被掺杂杂质以减少所述虚设单元的单元泄漏。可以描述和/或要求保护其他实施例。
搜索关键词: 用于 虚设 阵列 泄漏 减少 相变 存储器 单元 注入
【主权项】:
一种装置,包括:多个相变存储器(PCM)元件,其中,所述多个PCM元件中的个体PCM元件是虚设单元,所述虚设单元包括:底部电极层;设置在所述底部电极层上的选择器件层;设置在所述选择器件层上的中间电极层;设置在所述中间电极层上的相变材料层;以及设置在所述相变材料层上的顶部电极层,其中,所述相变材料层被掺杂杂质以减少所述虚设单元的单元泄漏。
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